Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы

Киреев В.

под заказ

Цена в интернет-магазине: 159,00 руб.

ISBN: 5-94836-039-3
Внешнее покрытие издания: в пер.
Тираж издания: 1500
Фамилия автора в заголовке: Киреев
Инициалы автора (личного имени (имен)): В.
Код отношений (роль соавтора в издании): 070 Автор
Основное заглавие: Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Первые сведения об ответственности: В. Киреев, А. Столяров
Место издания: М.
Издатель: Техносфера
Дата издания: 2006
Объем издания (количество страниц): 191
Высота, см.: 22
Заглавие серии: Мир электроники
Индекс УДК: 621.38
Статус записи (Тип информации): В наличии
Ширина, см: 15,3
Толщина, см: 1,5
Вес в граммах: 380
Артикул: 1398646

Описание

Проведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ),используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС),и показаны тенденции их развития. Приведены основные характеристики элементов микроструктур ИМС, получаемых в процессах ХОГФ, а также технологические характеристики самих процессов и используемых реагентов. Приведены основные электрофизические характеристики осаждаемых пленок.